极大规模集成电路关键技术研究集体
研究集体推荐单位：中国科学院微电子研究所
研究集体主要科技贡献
该研究集体在国家科技重大专项支持下，牵头组织全国性产学研用联盟，联合北京大学、清华大学、复旦大学、中芯国际、武汉新芯等产学研用单位，通过5年攻关，实现了22纳米高K介质/金属栅工程、14纳米FinFet器件、新型闪存器件、可制造性设计等关键技术的突破，研究水平迈入世界前列；提出了“专利指导下的研发战略”，在关键工艺模块上形成了较为系统的知识产权布局（专利2406项，含国际专利483项），并首次实现了向大型制造企业的许可转让，开始进入产业化开发阶段。这一成果的取得，标志着我国在集成电路这一高度全球化的高科技竞争领域前沿开始拥有一席之地，将为我国纳米级极大规模集成电路产业技术升级提供有力的技术支撑。
研究集体突出贡献者及主要科技贡献
叶甜春
负责技术路线整体设计与规划、知识产权系统布局和实施，组建“产学研”联合研发团队，推进技术研发与产业化。
陈大鹏
负责组织22和14纳米关键工艺技术研发，重点攻关任务推进，组建集成电路先导工艺公共研发平台。
朱慧珑
负责技术攻关，提出了“专利指导下的研发战略”，领导形成了20-14纳米主要专利组合，在高K/金属栅和FinFET方面个人专利申请数量全球排名分别为第一和第五。
研究集体主要完成者及工作单位
赵 超 中国科学院微电子研究所
闫 江 中国科学院微电子研究所
杨士宁 中国科学院微电子研究所/武汉新芯集成电路有限公司
徐秋霞 中国科学院微电子研究所
刘 明 中国科学院微电子研究所
陈 岚 中国科学院微电子研究所
殷华湘 中国科学院微电子研究所
钟汇才 中国科学院微电子研究所
尹海洲 中国科学院微电子研究所
李俊峰 中国科学院微电子研究所
王文武 中国科学院微电子研究所
霍宗亮 中国科学院微电子研究所
李春龙 中国科学院微电子研究所
王红丽 中国科学院微电子研究所
王大海 中国科学院微电子研究所
阮文彪 中国科学院微电子研究所
唐 波 中国科学院微电子研究所
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